Исследование влияния технологических параметров формирования слоя Р3HT:PCBM на спектральные и электрические характеристики фоточувствительных структур
| Направление | Электроника, нанотехнологии, наноматериалы |
|---|---|
| ФИО авторов | Нестеров Василий Алексеевич |
| Организация | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)» |
| Доклад | Просмотреть доклад |