Исследование влияния технологических параметров формирования слоя Р3HT:PCBM на спектральные и электрические характеристики фоточувствительных структур

Направление Электроника, нанотехнологии, наноматериалы
ФИО авторов Нестеров Василий Алексеевич
Организация Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)»
Доклад Просмотреть доклад

Обсудить доклад